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KRI離子源電源維修自動控制器GCF12602F01C-01

Kaufmαn Source Controller考夫曼KRI離子源自動控制器維修；離子源電源全系列型號修理。

KRI電源模組集成包有單獨的電源模組衍生而來，因為 KRI 的電源模組是一種標準的模組，所以這些模組能夠容易的集成到自動、多功能的功率包中。集成包是一個強有力的工具，能夠簡化等離子、離子和電子源的操作, 可以方便的實現功率控制的更優化.

當經常應用在如下的場合：

1. 工藝工程師想實現寬范圍的工藝設計和優化，渴望確保參數的重復性，工藝可控

2. 生產經理想實現一個簡單的命令操作，使工藝參數快速穩定

3. OEM 想實現高的集成度從而降低成本

4. 從事薄膜表面和結構的科研工作想實現靈活、很好的工藝控制

eH Plasmα Power Pack Controller---eH 等離子功率集成包

eH 等離子功率集成包用于驅動 end-Hall 離子源，它由電子發射模組、等離子放電模組和自動系統控制模組組成，結構緊湊、重量輕便。適用于材料工藝中要求穩定和很好的電子或離子源的功率控制。

eH Plasmα Power Pack 有自我保護功能，同時它是一個快速反應的功率源，可以在幾秒鐘內點火產生等離子，并在幾秒鐘內使離子束達到穩定。可以存儲多個工藝程序、控制多個MFC確保對多種氣體和氣體混合物的準確控制。

使用者能容易的設置各種參數和模式、狀態，面版上會顯示出設定值、運行值、功能表存儲資訊和工作狀態資訊。

KRI RFICP Ion Power Pack Controller 射頻感應耦合等離子功率集成包

RFICP Ion Power Pack Controller 用于驅動有柵離子源，由中和器模組、放電模組、偏壓模組和加速模組組成，這些模組集成在一個 19” 的集成包中。

RFICP Ion Power Pack Controller 給離子源的射頻線圈、離子光學和中和器提供電源，將射頻功率耦合到輝光放電腔室，產生高密度的等離子體。配有自動阻抗適配器實現更優化，用戶可以選擇離子源和離子密度來滿足工藝的要求。廣泛用于沉積和刻蝕工藝中。

KRI離子源電源維修/考夫曼離子源自動控制器維修射頻的額定功率 0.5 KW 或更高，中和器的額定功率 0.5 A 或更高。